Effect of working pressure and post-annealing on structural, optical and electrical properties of p-type NiO thin films produced by RF magnetron sputtering technique.

Autor:	Şenaslan, Fatih1 (AUTHOR) fsenaslan@gumushane.edu.tr, Taşdemir, Muharrem1 (AUTHOR), Çelik, Ayhan2 (AUTHOR)
Zdroj:	Applied Physics A: Materials Science & Processing. Oct2021, Vol. 127 Issue 10, p1-9. 9p. 4 Charts, 7 Graphs.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.