Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"wafer-level optics (WLO)"'
Publikováno v:
Micromachines, Vol 11, Iss 10, p 941 (2020)
Polymer shrinkage in nano-imprint lithography (NIL) is one of the critical issues that must be considered in order to produce a quality product. Especially, this condition should be considered during the manufacture of optical elements, because micro
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/d1c0fb1b45dd401f8868e87b7065ef45
Publikováno v:
Micromachines, Vol 11, Iss 941, p 941 (2020)
Micromachines
Volume 11
Issue 10
Micromachines
Volume 11
Issue 10
Polymer shrinkage in nano-imprint lithography (NIL) is one of the critical issues that must be considered in order to produce a quality product. Especially, this condition should be considered during the manufacture of optical elements, because micro
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c786d8eecc975d3d3fcea802bc8de3a7
https://www.mdpi.com/2072-666X/11/10/941
https://www.mdpi.com/2072-666X/11/10/941
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.