Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"wafer curvature method"'
Publikováno v:
Nanomaterials, Vol 8, Iss 11, p 896 (2018)
The present study investigated the influence of nanoscale residual stress depth gradients on the nano-mechanical behavior and adhesion energy of aluminium nitride (AlN) and Al/AlN sputtered thin films on a (100) silicon substrate. By using a focused
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/b23bf69e46d84ad88e2bba8dea16fe5e
Publikováno v:
Nanomaterials, Vol 8, Iss 11, p 896 (2018)
Nanomaterials
Volume 8
Issue 11
Nanomaterials
Volume 8
Issue 11
The present study investigated the influence of nanoscale residual stress depth gradients on the nano-mechanical behavior and adhesion energy of aluminium nitride (AlN) and Al/AlN sputtered thin films on a (100) silicon substrate. By using a focused
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b4d22fce068088d609d7c7b8b8312e9d
https://www.mdpi.com/2079-4991/8/11/896
https://www.mdpi.com/2079-4991/8/11/896
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.