Výsledky vyhledávání - "van der Jeugd, C. A."

Akademický článek

A kinetic study on tungsten deposition from SiH4 and WF6.

Autor: van der Jeugd, C. A., Janssen, G. C. A. M., Radelaar, S.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/15/1992, Vol. 72 Issue 4, p1583, 6p, 2 Charts, 4 Graphs

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

A thermodynamic and kinetic study of chemical vapor deposition of tungsten from WF6 and GeH4.

Autor: van der Jeugd, C. A., Leusink, G. J., Janssen, G. C. A. M., Radelaar, S.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/15/1991, Vol. 70 Issue 4, p2353, 8p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Selective chemical vapor deposition of tungsten using WF6 and GeH4.

Autor: van der Jeugd, C. A., Leusink, G. J., Janssen, G. C. A. M., Radelaar, S.

Publikováno v: Applied Physics Letters; 7/23/1990, Vol. 57 Issue 4, p354, 3p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Deposition of tungsten on silicon dioxide by GeH4 reduction of WF6.

Autor: Oosterlaken, T. G. M., Leusink, G. J., van der Jeugd, C. A., Janssen, G. C. A. M., Radelaar, S.

Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 02/02/1992, Vol. 260, pN.PAG-1, 1p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Selective Chemical Vapour Deposition of Tungsten Using SiH4/WF6 Chemistry.

Autor: van der Jeugd, C. A., Verbruggen, A. H., Leusink, G. J., Janssen, G. C. A. M., Radelaar, S.

Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 01/30/1989, Vol. 168, pN.PAG-1, 1p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

ChemInform Abstract: Characterization of Tungsten Deposited by GeH4 Reduction of WF6, and Its Application as Contact Material to Si.

Autor: VAN DER JEUGD, C. A., LEUSINK, G. J., OOSTERLAKEN, T. G. M., ALKEMADE, P. F. A., NANVER, L. K., GOUDENA, E. J. G., JANSSEN, G. C. A. M., RADELAAR, S.

Publikováno v: ChemInform; Mar1993, Vol. 24 Issue 11, pno-no, 1p

Zobrazit plný text záznamu