Zobrazeno 1 - 10
of 110
pro vyhledávání: '"van de Kerkhof M"'
Autor:
Eremin, D., Sharova, Yu., Heijmans, L., Yakunin, A. M., van de Kerkhof, M., Brinkmann, R. -P., Kemaneci, E.
A low pressure discharge sustained in molecular hydrogen with help of the electron cyclotron resonance heating at a frequency of 2.45 GHz is simulated using a fully electromagnetic implicit charge- and energy-conserving particle-in-cell/Monte Carlo c
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2412.15802
Laser Light Scattering (LLS) method, combined with a long-distance microscope was utilized to detect micrometer-sized particles on a smooth substrate. LLS was capable to detect individual particle release, shrink, or fragmentation during exposure to
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2307.05615
Autor:
Chaudhuri, M., Heijmans, L. C. J., van de Kerkhof, M., Krainov, P., Astakhov, D., Yakunin, A. M.
The nanoparticle charging processes along with background spatial-temporal plasma profile have been investigated with 3DPIC simulation in a pulsed EUV exposure environment. It is found that the particle charge polarity (positive or negative) strongly
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2303.14684
Extreme ultraviolet (EUV) induced pulsed plasma is unique due to its transient characteristics: the plasma switches between non-thermal state (when EUV power is ON at the beginning of the pulse) and thermal state (end of the pulse at ~ 20 us). It is
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2112.13073
Autor:
Krainov, P. V., Ivanov, V. V., Astakhov, D. I., Medvedev, V. V., Kvon, V. V., Yakunin, A. M., van de Kerkhof, M. A.
A nanometer-sized dielectric particle lying on a dielectric substrate is exposed to the flux of low-energy electrons, ion and electron fluxes from a cold plasma and the fluxes from the combination of these two sources with the help of particle-in-cel
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2011.09204
Autor:
Krainov, P. V., Ivanov, V. V., Astakhov, D. I., van de Kerkhof, M. A., Kvon, V. V., Medvedev, V. V., Yakunin, A. M.
Publikováno v:
Plasma Sources Sci. Technol. 29 (2020) 085013 (8pp)
The particle-in-cell simulation is applied to study a nanometer-sized dielectric particle lofting from a dielectric substrate exposed to a low energy electron beam. The article discusses the electron accumulation between such a substrate and a partic
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2001.07992
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.