Zobrazeno 1 - 10 of 22 pro vyhledávání: '"van Veldhuizen, S."'
1
Akademický článek
On projected Newton–Krylov solvers for instationary laminar reacting gas flows
Autor: van Veldhuizen, S., Vuik, C., Kleijn, C.R.
Publikováno v: In Journal of Computational Physics 2010 229(5):1724-1738
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Comparison of numerical methods for transient CVD simulations
Autor: Van Veldhuizen, S., Vuik, C., Kleijn, C.R.
Publikováno v: In Surface & Coatings Technology 2007 201(22):8859-8862
Zobrazit plný text záznamu
3
Efficient numerical methods for the instationary solution of laminar reacting gas flow problems
Autor: Van Veldhuizen, S.
Publikováno v: None
In production processes of micro-electronics, optical and mechanical coatings and solar cells, high-purity materials in the form of a powder or a thin film are significant importance. The deposition of thin films on irregularly shaped surfaces can be
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::e6b2fedd2fa29167ef76f92fee6feb7e
http://resolver.tudelft.nl/uuid:f514548b-63c6-4015-a824-c86c9a63477c
Zobrazit plný text záznamu
5
A note on the numerical simulation of Kleijn's benchmark problem
Autor: Van Veldhuizen, S., Vuik, C., Kleijn, C.R.
Publikováno v: Reports of the Department of Applied Mathematical Analysis, 06-15
In this study various numerical schemes for transient simulations of 2D laminar reacting gas flows, as typically found in Chemical Vapor Deposition (CVD) reactors, are proposed and compared. These systems are generally modeled by means of many stiffl
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::a0a5917d9bd66696c0eb1a372ee166eb
http://resolver.tudelft.nl/uuid:97c2f251-d878-421a-b072-003301384259
Zobrazit plný text záznamu
6
Numerical methods for CVD simulation
Autor: Van Veldhuizen, S., Vuik, C., Kleijn, C.R.
Publikováno v: Reports of the Department of Applied Mathematical Analysis, 06-07
In this study various numerical schemes for simulating 2D laminar reacting gas flows, as typically found in Chemical Vapor Deposition (CVD) reactors, are proposed and compared. These systems are generally modeled by means of many stiffly coupled elem
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::7910e974e3f00916191a08a01892de4b
http://resolver.tudelft.nl/uuid:b2df1476-7085-4b82-b30f-9c863a910c03
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Kniha
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje