Zobrazeno 1 - 10
of 308
pro vyhledávání: '"van Steenbergen, J."'
Autor:
Brammertz, G., Caymax, M., Mols, Y., Degroote, S., Leys, M., Van Steenbergen, J., Winderickx, G., Borghs, G., Meuris, M.
Publikováno v:
Proceedings of the 210th Meeting of The Electrochemical Society, Cancun, Mexico, October 29-November 3, 2006
We have selectively grown thin epitaxial GaAs films on Ge substrates with the aid of a 200 nm thin SiO2 mask layer. The selectively grown structures have lateral sizes ranging from 1 um width up to large areas of 1 by 1 mm2. The growth is fully selec
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/cond-mat/0703664
Publikováno v:
In Journal of Hospital Infection February 2018 98(2):212-218
Publikováno v:
Epidemiology and Infection, 2017 May 01. 145(7), 1431-1436.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/26521215
Publikováno v:
In Journal of Hospital Infection March 2017 95(3):268-274
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Van Duynhoven, Y. T. H. P., Isken, L. D., Borgen, K., Besselse, M., Soethoudt, K., Haitsma, O., Mulder, B., Notermans, D. W., De Jonge, R., Kock, P., Van Pelt, W., Stenvers, O., Van Steenbergen, J.
Publikováno v:
Epidemiology and Infection, 2009 Nov 01. 137(11), 1548-1557.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/40272190
Autor:
Koene, R. P. M., Gotz, H. M., Van Den Hoek, J. A. R., Heijnen, M. L. A., Van Steenbergen, J. A., Kroes, A. C. M.
Publikováno v:
Epidemiology and Infection, 2009 Apr 01. 137(4), 495-503.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/25476937
Autor:
Zijtregtop, E.A.M., Wilschut, J., Koelma, N., Van Delden, J.J.M., Stolk, R.P., Van Steenbergen, J., Broer, J., Wolters, B., Postma, M.J., Hak, E.
Publikováno v:
In Vaccine 2009 28(1):207-227
Autor:
Dimoulas, A., Panayiotatos, Y., Sotiropoulos, A., Tsipas, P., Brunco, D.P., Nicholas, G., Van Steenbergen, J., Bellenger, F., Houssa, M., Caymax, M., Meuris, M.
Publikováno v:
In Solid State Electronics 2007 51(11):1508-1514
Autor:
Forment, S., Vanhellemont, J., Clauws, P., Van Steenbergen, J., Sioncke, S., Meuris, M., Simoen, E., Theuwis, A.
Publikováno v:
In Materials Science in Semiconductor Processing 2006 9(4):559-563