Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"tapered trench etching"'
Autor:
Harutaka Mekaru
Publikováno v:
Micromachines, Vol 6, Iss 2, Pp 252-265 (2015)
In combination with tapered-trench-etching of Si and SU-8 photoresist, a grayscale mask for deep X-ray lithography was fabricated and passed a 10-times-exposure test. The performance of the X-ray grayscale mask was evaluated using the TERAS synchrotr
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/615dbb6381044aea91fe05fb135a3c65
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.