Výsledky vyhledávání - "single-crystal silicon carbide"

Akademický článek

Ultra-Smooth Polishing of Single-Crystal Silicon Carbide by Pulsed-Ion-Beam Sputtering of Quantum-Dot Sacrificial Layers.

Autor: Qiao, Dongyang^1,2,3 (AUTHOR) dyqiao@nudt.edu.cn, Shi, Feng^1,2,3 (AUTHOR) shifeng@nudt.edu.cn, Tian, Ye^1,2,3 (AUTHOR) zhangwanli17@nudt.edu.cn, Zhang, Wanli^1,2,3 (AUTHOR) lingbotse@163.com, Xie, Lingbo^1,2,3 (AUTHOR) g18231033287@163.com, Guo, Shuangpeng^1,2,3 (AUTHOR) songci@nudt.edu.cn, Song, Ci^1,2,3 (AUTHOR) tieguipeng@163.com, Tie, Guipeng^1,2,3,4 (AUTHOR)

Publikováno v: Materials (1996-1944). Jan2024, Vol. 17 Issue 1, p157. 11p.

Zobrazit plný text záznamu

Plný text ve formátu HTML

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Investigation on mechanism of nano-machining of single-crystal silicon carbide on non-continuous surface with diamond abrasive

Autor: Yifan WANG, Wenzhi TANG, Yan HE, Xingjun GAO, Lin FAN, Shuyuan SONG

Publikováno v: Jin'gangshi yu moliao moju gongcheng, Vol 44, Iss 1, Pp 92-100 (2024)

The molecular dynamics model of nano-machining a single-crystal silicon carbide substrate with a diamond abrasive is established. The effect of scratch on the atomic removal process and the material removal mechanism of the scratch wall were studied,

Externí odkaz: https://doaj.org/article/697644c83f6a4df78ee1f8678d2b0939

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Optimization of polishing fluid composition for single crystal silicon carbide by ultrasonic assisted chemical-mechanical polishing

Autor: Linzheng Ye, Jialong Wu, Xijing Zhu, Yao Liu, Wenlong Li, Shida Chuai, Zexiao Wang

Publikováno v: Scientific Reports, Vol 14, Iss 1, Pp 1-13 (2024)

Abstract Silicon carbide (SiC) is renowned for its exceptional hardness, thermal conductivity, chemical stability, and wear resistance. However, the existing process is difficult to meet the high standards of uniform corrosion in its polishing proces

Externí odkaz: https://doaj.org/article/fc3bdcb6018148d393d97133b4a560bf

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání