Zobrazeno 1 - 10
of 131
pro vyhledávání: '"sidewall angle"'
Publikováno v:
Micromachines, Vol 15, Iss 6, p 807 (2024)
Hydrophobic surfaces have attracted great attention due to their ability to repel water, and metallic surfaces are particularly significant as they have several benefits, for example they self-clean and do not corrode in marine environments, but also
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/5c7707fcf697465ab623254969dc6f2c
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
T. B. V. Chetan, S. Chakrabarti
Publikováno v:
Journal of Applied Fluid Mechanics, Vol 12, Iss 6, Pp 1989-2002 (2019)
In the present article, numerical analysis has been performed on a dump diffuser model, to study the effect of sidewall expansion angle (SWA), on its performance aspects. SWA has been varied from 90° to 1° and performance has been evaluated in term
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/574eefd29445422ca73ddf565cb047cd
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Materials Research Express, Vol 8, Iss 7, p 076403 (2021)
Some experiments have proved that superhydrophobic behaviors can be achieved on inherently hydrophilic substrates without low surface energy modification at micro-scale. However, the thermodynamic mechanisms about these results have not been well-und
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/59ced0ec869e476c964f4039d48c795f
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Hung-Fei Kuo, Anifatul Faricha
Publikováno v:
IEEE Access, Vol 4, Pp 7479-7486 (2016)
Diffraction-based overlay (DBO) accuracy is critical to the intelligent nanolithography process control for producing advanced semiconductor fabrication nodes. Optical gratings located on various layers are commonly used as the targets for the detect
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/bcdc4cb912ee4e0bba39a9d823ed1e60
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.