Zobrazeno 1 - 10
of 122
pro vyhledávání: '"sequential vacuum evaporation"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Yan, Jin, Zhao, Jiashang, Wang, Haoxu, Kerklaan, Mels, Bannenberg, Lars J., Ibrahim, Bahiya, Savenije, Tom J., Mazzarella, Luana, Isabella, Olindo
Publikováno v:
ACS Applied Energy Materials; 10/23/2023, Vol. 6 Issue 20, p10265-10273, 9p
Autor:
Inhee Maeng, Hiroshi Tanaka, Valynn Katrine Mag-usara, Makoto Nakajima, Masakazu Nakamura, Min-Cherl Jung
Publikováno v:
Frontiers in Chemistry, Vol 9 (2021)
All mixed hybrid perovskite (MA(Sn, Pb)(Br,I)3) thin film was fabricated by sequential vacuum evaporation method. To optimize the first layer with PbBr2 and SnI2, we performed different annealing treatments. Further, MA(Sn, Pb)(Br, I)3 thin film was
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/c95bff22090445f29fe640509d004d27
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Extended Abstracts of the 2019 International Conference on Solid State Devices and Materials.
Publikováno v:
Extended Abstracts of the 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials.
Autor:
Young Mi Lee, Sora Kobori, Inhee Maeng, Hiroaki Benten, Hirotaka Kojima, Asuka Matsuyama, Masakazu Nakamura, Min-Cherl Jung
Publikováno v:
Applied Physics Express. 12:015501
CH3NH3PbI3 thin films were formed with various deposition rates of PbI2 first layer using a sequential vacuum evaporation method (SVE) to understand the formation behavior. Under low PbI2 deposition rates with 1 and 3 A s−1, the thin films did not
Autor:
Lee, Young Mi, Yun, Jung-Ho, Matsuyama, Asuka, Kobori, Sora, Maeng, Inhee, Lyu, Miaoqiang, Wang, Shenghao, Wang, Lianzhou, Jung, Min-Cherl, Nakamura, Masakazu
Publikováno v:
Applied Physics Express (APEX); May 2019, Vol. 12 Issue: 5 p051003-051003, 1p