Zobrazeno 1 - 10
of 3 749
pro vyhledávání: '"semiconductor memory"'
Publikováno v:
Nuclear Technology and Radiation Protection, Vol 39, Iss 1, Pp 21-28 (2024)
The miniaturization of computer facilities conditioned by the miniaturization of applied components makes them very sensitive to radioactive radiation. This is where neutron and electromagnetic radiation come to the fore. The reason for the partic
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/9a81bb7e8ef941d2a4019ec330cb9ebf
Autor:
Saadman Abedin, Vladislav Kurtash, Sobin Mathew, Sebastian Thiele, Heiko O. Jacobs, Jörg Pezoldt
Publikováno v:
Materials, Vol 17, Iss 6, p 1350 (2024)
Molybdenum disulfide, a two-dimensional material extensively explored for potential applications in non-von Neumann computing technologies, has garnered significant attention owing to the observed hysteresis phenomena in MoS2 FETs. The dominant sourc
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/6fd18d2f1b9c4a7cb030a40c84603a39
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mitsue Takahashi, Shigeki Sakai
Publikováno v:
Nanomaterials, Vol 11, Iss 1, p 101 (2021)
Strontium bismuth tantalate (SBT) ferroelectric-gate field-effect transistors (FeFETs) with channel lengths of 85 nm were fabricated by a replacement-gate process. They had metal/ferroelectric/insulator/semiconductor stacked-gate structures of Ir/SBT
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/b17b0f1b87b54e1e99e54ad4c65c5b78
Publikováno v:
Nuclear Technology and Radiation Protection, Vol 31, Iss 3, Pp 240-246 (2016)
The aim of this paper is examining a radiation hardness of the magnetic (Toshiba MK4007 GAL) and semiconductor (AT 27C010 EPROM and AT 28C010 EEPROM) computer memories in the field of radiation. Magnetic memories have been examined in the field of
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/83df6f9915374014912ba6ed207f2f7a
Publikováno v:
J. Phys. Chem. C. 125(No. 49):27479-27488
New π-conjugated polymers based on dithienyl-diketopyrrolopyrrole (dtDPP) were synthesized by direct arylation polymerization, that is, poly(dtDPP), poly(dtDPP-FL), and poly(dtDPP-TPA). They reveal...
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c623f57e3703f7341bd95789e4897037
http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100864671
http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100864671
Autor:
Roy Nilabh K, Takahiro Matsumoto, Ryo Tanaka, Mitsuru Hiura, Yukio Takabahashi, Jin Choi, Yoshio Suzaki, Anshuman Cherala, Atsushi Kimura, Hiroshi Morohoshi
Publikováno v:
Photomask Technology 2022.
Imprint lithography is an effective and well-known technique for replication of nano-scale features. Nanoimprint lithography (NIL) manufacturing equipment utilizes a patterning technology that involves the field-by-field deposition and exposure of a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b9383de76c22c30f5ed2d3ab0be60930
https://doi.org/10.1117/12.2643212
https://doi.org/10.1117/12.2643212
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.