Zobrazeno 1 - 10
of 112
pro vyhledávání: '"self‐compliance"'
Publikováno v:
Advanced Intelligent Systems, Vol 6, Iss 8, Pp n/a-n/a (2024)
As the demand for bio‐inspired neuromorphic systems grows, memristor has emerged as a pivotal component in artificial synaptic devices. This study delves into the advantages and limitations of the one‐transistor‐one‐resistor (1T‐1R) and 0T
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/1f759b990fe747a9806510f620da2dcf
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Hojeong Ryu, Sungjun Kim
Publikováno v:
Metals, Vol 11, Iss 8, p 1199 (2021)
This study presents conductance modulation in a Pt/TiO2/HfAlOx/TiN resistive memory device in the compliance region for neuromorphic system applications. First, the chemical and material characteristics of the atomic-layer-deposited films were verifi
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/33f36a53af2148aab1d66f5e5b38155c
Publikováno v:
Nanomaterials, Vol 10, Iss 3, p 457 (2020)
A self-compliance resistive random access memory (RRAM) achieved through thermal annealing of a Pt/HfOx/Ti structure. The electrical characteristic measurements show that the forming voltage of the device annealing at 500 °C decreased, and the switc
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/8a3ba0bedaa54896a900dbf36892d1f5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.