Key Techniques on Preparing High Aspect Ratio Micro and Nano Structures

Autor: Jian, Zhao, Lianhe, Dong, Xiaoli, Zhu, Changqing, Xie, Baoqin, Chen, Shi, Peixiong

Publikováno v: Jian, Z, Lianhe, D, Xiaoli, Z, Changqing, X, Baoqin, C & Shi, P 2016, ' Key Techniques on Preparing High Aspect Ratio Micro and Nano Structures ', Wei-Na Dianzi Jishu, vol. 53, no. 10, pp. 685-690 . https://doi.org/10.13250/j.cnki.wndz.2016.10.008

The HSQ has the advantages of high resolution, high contrast and low edge roughness. Through a lot of process experiments, the optimization conditions of the electron beam exposure dose, the proportion of the developer, the developing time and the de

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1202::852e8bb5e742e506a6b02c13f297a901
https://orbit.dtu.dk/en/publications/26d21639-d7f9-4edb-b1f1-8ea9efc7a37c

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.