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pro vyhledávání: '"radicaux silicium-chlore"'
Autor:
Kogelschatz, Martin
L'objectif de ce travail est de comprendre les interactions plasma-surface pendant la gravure du silicium dans des chimies HBr/Cl2/O2. Dans ces procédés, une couche se dépose sur les parois du réacteur et mène à la dérive du procédé. La natu
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http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00009005
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/04/79/61/PDF/tel-00009005.pdf
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