Výsledky vyhledávání - "r-HiPIMS plasma"

Semiconducting p-Type Copper Iron Oxide Thin Films Deposited by Hybrid Reactive-HiPIMS + ECWR and Reactive-HiPIMS Magnetron Plasma System

Autor: J. Olejníček, Martin Cada, Martin Zlámal, Zdenek Hubicka, Drahoslav Tvarog, Josef Krýsa

Publikováno v: Coatings
Volume 10
Issue 3
Coatings, Vol 10, Iss 3, p 232 (2020)

A reactive high-power impulse magnetron sputtering (r-HiPIMS) and a reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with electron cyclotron wave resonance plasma source (r-HiPIMS + ECWR) were used for the deposition of p-type CuFexOy thin f

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::bf5e0577e96b1ca7c8017495e3858a33

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání