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pro vyhledávání: '"pulverización catódica"'
Autor:
M.A. Urbina-Yarupetán, Juan Gonzalez
Publikováno v:
Revista de Investigación de Física, Vol 23, Iss 2 (2020)
Presentamos los resultados experimentales obtenidos del análisis microestructural de películas delgadas de ZnO con 20, 50 y 100 nm de espesor, crecidas sobre el sustrato de vidrio comercial por pulverización catódica reactiva. Analizamos la infor
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https://doaj.org/article/1b48bc41050148a4ad22700725ab10b9
Publikováno v:
Momento, Vol 0, Iss 57, Pp 50-59 (2018)
Las películas de AlGaAs fueron depositadas por pulverización catódica asistida por campo magnético sobre sustratos de vidrio y Si (100). Se mantuvo constante la temperatura del substrato y se varió la relación de la potencia de los blancos de A
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https://doaj.org/article/f2566df3dd7f40d7ba3baef75fb2d699
Autor:
José Ignacio Uribe-Alzate, Franklin Jaramillo-Isaza, Juan Esteban Calle-Montoya, Jaime Alberto Osorio-Velez
Publikováno v:
Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia, Iss 80, Pp 152-158 (2016)
En un sólido la buena conductividad eléctrica y la transparencia óptica parecen ser 2 propiedades contradictorias. Los materiales conductores son opacos, y los sólidos transparentes son aislantes eléctricos. La combinación de estas dos propieda
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https://doaj.org/article/d870a7cb66074c0a88a7e0138875216f
Publikováno v:
Tecnología en Marcha, Vol 31, Iss 5 (2018)
El objetivo de este proyecto es medir la actividad fotocatalitica de capas delgadas de óxidos de Titanio depositadas por Pulverización Catódica con Magnetrón. Los recubrimientos se depositaron en sustratos de silicón utilizando una mezcla de gas
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https://doaj.org/article/a5903a2673154a078d788d3cde933ff0
Publikováno v:
Revista de Metalurgia, Vol 53, Iss 1, Pp e085-e085 (2017)
En este trabajo se desarrolló el recubrimiento compuesto de TaN(Ag) con una variación del contenido de plata entre 2,26 y 28,51 %at, mediante la técnica de pulverización catódica asistida por campo magnético desbalanceado. Se eligió el recubri
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https://doaj.org/article/d793d61d70bd4538be0e72de19f75195
Publikováno v:
Universidad Nacional de San Agustín de Arequipa
Repositorio Institucional-UNSA
UNSA-Institucional
Universidad Nacional de San Agustín
instacron:UNSA
Repositorio Institucional-UNSA
UNSA-Institucional
Universidad Nacional de San Agustín
instacron:UNSA
Películas delgadas de óxidos semiconductores de TiO2, SnO2 y bicapas TiO2 / SnO2 fueron depositadas por la técnica de pulverización catódica DC (Sputtering), en sustratos de vidrio y alúmina. Primeramente, han sido estudiadas las películas del
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::014533b5798dbe0b48cb3bc06c256c28
Publikováno v:
Repositorio UdeA
Universidad de Antioquia
instacron:Universidad de Antioquia
Universidad de Antioquia
instacron:Universidad de Antioquia
RESUMEN : Para mejorar el comportamiento de los materiales empleados en el área de la salud, sea como implantes o instrumental quirúrgico, han sido ampliamente utilizados los recubrimientos duros ya que permiten conferir excelentes propiedades trib
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::a58eef080e0531a937814fdd5a61b8b9
Autor:
González Soriano, Jackelin
Publikováno v:
RiuNet. Repositorio Institucional de la Universitat Politécnica de Valéncia
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[ES] La técnica de pulverización catódica es ampliamente utilizada es uno de los métodos para la fabricación de películas delgadas que más se usa en la actualidad. Su popularidad deriva de la sencillez de su proceso físico, de la versatilidad
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::0ecc813c27040da6209955ec845c675f
http://hdl.handle.net/10251/188584
http://hdl.handle.net/10251/188584
Publikováno v:
Revista EIA, Iss 18, Pp 9-17 (2012)
Los recubrimientos de carburo de cromo sobre acero son un buen candidato para aplicaciones de conformado y moldes de inyección. La alta resistencia mecánica, resistencia química y estabilidad a alta temperatura de la fase Cr3C2 pueden ser compatib
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https://doaj.org/article/398b2f9b3bbc4aa2abf50686cdd54616
Publikováno v:
Momento, Vol 0, Iss 45, Pp 34-43 (2012)
GaPN thin films were deposited on Silicon (100) substrates, in the range of 420-520 oC by r-f magnetron sputtering employing a nitrogen–argon atmosphere. According to X-ray measurements the GaPN films are polycrystalline with preferential orientati
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https://doaj.org/article/cdd5b7e4319046adb99dcadff492dcff