Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"plasma alternately treated gate dielectric"'
Autor:
Qiang Wang, Maolin Pan, Penghao Zhang, Luyu Wang, Yannan Yang, Xinling Xie, Hai Huang, Xin Hu, Min Xu
Publikováno v:
IEEE Access, Vol 12, Pp 16089-16094 (2024)
This article systematically studies the AlGaN/GaN MIS-HEMTs using the O2 plasma alternately treated Al2O3 as gate dielectric. The X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analyses and capacitance-voltage (C-V) measurement results show that the density
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/04e1f1e0df6d4795934cd79e7a46f822
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.