Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"multicomponent thin film"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Clara Linder, Smita G. Rao, Robert D. Boyd, Arnaud le Febvrier, Per Eklund, Sara Munktell, Emma M. Björk
Corrosion resistance and catalytic activity toward the oxygen reduction reaction (ORR) in an alkaline environment are two key properties for water recombination applications. In this work, CoCrFexNi (0 = 0.5) and was attributed to the formation of pl
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::1ad4e097cdda03b83401e67cb3358087
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-188445
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-188445
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Vacuum. 204:111331
During direct current magnetron sputtering (dcMS) of thin films, the ion energy and flux are complex parameters that influence thin film growth and can be exploited to tailor their properties. The ion energy is generally controlled by the bias voltag
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::43684398a3baf91c87d760d031509daf
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111331
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111331
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Jarlöv, Asker
The goal of this work was to evaluate the electrochemical properties of TiZrNbTa thin films deposited by magnetron sputtering using an industrial physical vapor deposition system. Samples were deposited on both Si(001) and 316L stainless steel. The s
Externí odkaz:
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-427555
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.