Zobrazeno 1 - 10
of 12 267
pro vyhledávání: '"interference lithography"'
Large-area gratings play a crucial role in various engineering fields. However, traditional interference lithography is limited by the size of optical component apertures, making large-area fabrication a challenging task. Here, a method for fabricati
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2411.01976
Autor:
Luo, Linbin1 (AUTHOR) luolb24@mails.tsinghua.edu.cn, Shan, Shuonan1 (AUTHOR) shansn24@mails.tsinghua.edu.cn, Li, Xinghui1,2 (AUTHOR) li.xinghui@sz.tsinghua.edu.cn
Publikováno v:
Sensors (14248220). Oct2024, Vol. 24 Issue 20, p6617. 44p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Gaurav Singhal, Sujan Dewanjee, Gwangmin Bae, Youngjin Ham, Danny J. Lohan, Kai‐Wei Lan, Jiaqi Li, Tarek Gebrael, Shailesh N. Joshi, Seokwoo Jeon, Nenad Miljkovic, Paul V. Braun
Publikováno v:
Advanced Electronic Materials, Vol 10, Iss 8, Pp n/a-n/a (2024)
Abstract A nanostructured copper oxide (nCO) coating which can be electrochemically reduced to copper metal is demonstrated as an anti‐reflection coating, enabling interference lithography of three‐dimensionally structured templates on a surface
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/04686afd8a414b93ac72ec8bb1899854
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Lin, Zhiheng1 (AUTHOR) ZLIN20@sheffield.ac.uk, Wang, Yaoxun1 (AUTHOR), Wang, Yun-Ran1 (AUTHOR), Han, Im Sik1 (AUTHOR), Hopkinson, Mark1 (AUTHOR) m.hopkinson@sheffield.ac.uk
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 9/28/2024, Vol. 136 Issue 12, p1-8. 8p.