Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie

Autor: C. Rosilio, C. Montginoul, R. Sagnes, L. Giral, B. Holil, F. Buiguez, F. Schué, B. Serre

Publikováno v: Revue de Physique Appliquée
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩

Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure pla

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