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pro vyhledávání: '"high dry etch resistance"'
Autor:
Grigore A. Timco, Richard E. P. Winpenny, Jarvis Li, Axel Scherer, Matthew S. Hunt, Hayden R. Alty, Stephen G. Yeates, Alex Wertheim, Scott M. Lewis, Lucia B. De Rose, Guy A. DeRose
Publikováno v:
Lewis, S M, Hunt, M, Derose, G, Alty, H, Li, J, Wertheim, A, Derose, L, Timco, G A, Scherer, A, Yeates, S G & Winpenny, R E P 2019, ' Plasma-etched pattern transfer of sub-10 nm structures using a metal–organic resist and helium ion beam lithography ', Nano Letters . https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.9b01911
Field-emission devices are promising candidates to replace silicon fin field-effect transistors as next-generation nanoelectronic components. For these devices to be adopted, nanoscale field emitters with nanoscale gaps between them need to be fabric
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::50f008c97f1d4ff941dee0b4218d4f12
https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.9b01911
https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.9b01911
Akademický článek
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Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics; 6/15/2020, Vol. 59 Issue SI, p1-4, 4p
Publikováno v:
Revue de Physique Appliquée
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩
Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure pla
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::021111440b76f93358c55e9b217abfd3
https://doi.org/10.1051/rphysap:01985002003014300
https://doi.org/10.1051/rphysap:01985002003014300
Autor:
Lewis, Scott M., Hunt, Matthew S., DeRose, Guy A., Alty, Hayden R., Li, Jarvis, Wertheim, Alex, De Rose, Lucia, Timco, Grigore A., Scherer, Axel, Yeates, Stephen G., Winpenny, Richard E. P.
Publikováno v:
Nano Letters; 20240101, Issue: Preprints
Autor:
Almanza-Workman, A. Marcia, Jeans, Albert, Braymen, Steve, Elder, Richard E., Garcia, Robert A., de la Fuente Vornbrock, Alejandro, Hauschildt, Jason, Holland, Edward, Jackson, Warren, Jam, Mehrban, Jeffrey, Frank, Junge, Kelly, Kim, Han-Jun, Kwon, Ohseung, Larson, Don, Luo, Hao, Maltabes, John, Mei, Ping, Perlov, Craig, Smith, Mark, Stieler, Dan, Taussig, Carl P., Trovinger, Steve, Zhao, Lihua
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; March 2012, Vol. 8323 Issue: 1 p83231K-83231K-11, 8239881p
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics; Jun2021, Vol. 60 Issue SC, p1-6, 6p
Publikováno v:
RSC Advances; 2020, Vol. 10 Issue 14, p8385-8395, 11p
Autor:
Ito, Hiroshi
Publikováno v:
Solid State Technology. Jul96, Vol. 39 Issue 7, p164. 5p. 5 Black and White Photographs, 3 Diagrams, 3 Charts, 1 Graph.
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Jul/Aug2017, Vol. 35 Issue 4, p1-8, 8p