Zobrazeno 1 - 10
of 49
pro vyhledávání: '"high aspect ratio microstructures"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Nan Chen, Xiangyu Chen, Penghui Xiong, Shuangyue Hou, Xiaobo Zhang, Ying Xiong, Gang Liu, Yangchao Tian
Publikováno v:
Micromachines, Vol 7, Iss 7, p 115 (2016)
In the microfabrication processes, it is necessary to examine the quality of the structures to ensure the whole process runs smoothly. However, the examination process of pattern defects is interrupted during the fabrication of high-aspect-ratio micr
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/e13b7cccf47c4a27ad1c36813b5e3886
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Shuangyue Hou, Chen Nan, Xiangyu Chen, Yangchao Tian, Gang Liu, Xiaobo Zhang, Penghui Xiong, Ying Xiong
Publikováno v:
Micromachines; Volume 7; Issue 7; Pages: 115
Micromachines, Vol 7, Iss 7, p 115 (2016)
Micromachines
Micromachines, Vol 7, Iss 7, p 115 (2016)
Micromachines
In the microfabrication processes, it is necessary to examine the quality of the structures to ensure the whole process runs smoothly. However, the examination process of pattern defects is interrupted during the fabrication of high-aspect-ratio micr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::d3443dbb1a2e4e123293a726cbd172d5
Publikováno v:
Jian, Z, Lianhe, D, Xiaoli, Z, Changqing, X, Baoqin, C & Shi, P 2016, ' Key Techniques on Preparing High Aspect Ratio Micro and Nano Structures ', Wei-Na Dianzi Jishu, vol. 53, no. 10, pp. 685-690 . https://doi.org/10.13250/j.cnki.wndz.2016.10.008
The HSQ has the advantages of high resolution, high contrast and low edge roughness. Through a lot of process experiments, the optimization conditions of the electron beam exposure dose, the proportion of the developer, the developing time and the de
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1202::852e8bb5e742e506a6b02c13f297a901
https://orbit.dtu.dk/en/publications/26d21639-d7f9-4edb-b1f1-8ea9efc7a37c
https://orbit.dtu.dk/en/publications/26d21639-d7f9-4edb-b1f1-8ea9efc7a37c
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.