Zobrazeno 1 - 10
of 168
pro vyhledávání: '"flash-memory channel"'
Autor:
Li, Yingge1 (AUTHOR) 1112003005@mail2.gdut.edu.cn, Hu, Haihua1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Entropy. Sep2024, Vol. 26 Issue 9, p781. 16p.
Publikováno v:
Entropy, Vol 26, Iss 9, p 781 (2024)
As high-speed big-data communications impose new requirements on storage latency, low-density parity-check (LDPC) codes have become a widely used technology in flash-memory channels. However, the iterative LDPC decoding algorithm faces a high decodin
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/fcc31da0f93f4f6b8818a14a6e695ecc
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
ISIT
In this paper, we consider a discrete channel with inter-cell interference (ICI) as a model for NAND flash memory. We derive an explicit formula for the mutual information rate when the input is Markovian. Using this formula, we obtain the asymptotic
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Dong-Hyuk Park, Jaejin Lee
Publikováno v:
The Journal of Korea Information and Communications Society. 37:706-711
Multi-level cell NAND flash is a flash memory technology using multiple levels per cell to allow more bits to be stored. Currently, most multi-level cell NAND stores 2 bits of information per cell. This reduces the amount of margin separating the sta
Autor:
Wan Sup Shin, Sung Soon Kim, Seung Jin Yeom, Takeshi Ueda, Byung-Seok Lee, Min Sung Ko, Dong Sun Sheen, Sung Ki Park, Toshikazu Ishigaki, Woo Sik Yoo, Noh Yeal Kwak, Kitaek Kang
Publikováno v:
2014 14th Annual Non-Volatile Memory Technology Symposium (NVMTS).
Raman spectroscopy was used for characterizing poly-Si after thermal annealing of chemical vapor deposited (CVD) thin a-Si films in the vertical channel region of 3D V-NAND device wafers using various annealing conditions and techniques. Raman spectr
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Embedded Systems Letters; Jun2024, Vol. 16 Issue 2, p146-149, 4p