Zobrazeno 1 - 10 of 144 pro vyhledávání: '"electron resists"'
1
Akademický článek
Energetic Ion Reflections at Interplanetary Shocks: First Observations From ARTEMIS.
Autor: Zhou, Xiaoyan1 xyzhou@igpp.ucla.edu, Gedalin, Michael2, Russell, Christopher T.1, Angelopoulos, Vassilis1, Drozdov, Alexander Y.1
Publikováno v: Journal of Geophysical Research. Space Physics. Nov2020, Vol. 125 Issue 11, p1-17. 17p.
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Identification of Important Parameters for Laser Photoresist Removal Process Through the Use of Adaptive Neuro-Fuzzy Inference System (ANFIS) Methodology.
Autor: PETKOVIĆ, B., RESIC, S., PETKOVIĆ, D.
Publikováno v: International Journal of Laser Science: Fundamental Theory & Analytical Methods; 2021, Vol. 2 Issue 3/4, p181-193, 13p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Alignment verification for electron beam lithography.
Autor: Thoms, Stephen1 stephen.thoms@glasgow.ac.uk, Macintyre, Douglas S.1, Docherty, Kevin E.2, Weaver, John M.R.1
Publikováno v: Microelectronic Engineering. Jul2014, Vol. 123, p9-12. 4p.
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Quantum point contacts: Double or nothing?
Autor: Micolich, Adam1
Publikováno v: Nature Physics. Sep2013, Vol. 9 Issue 9, p530-531. 2p.
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Fabrication of three-dimensional microstructures in positive photoresist through two-photon direct laser writing.
Autor: Tsutsumi, Naoto1 tsutsumi@kit.ac.jp, Fukuda, Asato2, Nakamura, Ryotaro3, Kinashi, Kenji1, Sakai, Wataru1
Publikováno v: Applied Physics A: Materials Science & Processing. Aug2017, Vol. 123 Issue 8, p1-7. 7p.
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Magnetotransport Study on Iron Doped Novel 2D Nanoribbons via Electron – Acoustical Phonon Interactions.
Autor: Pandya, Ankur, Jha, Prafulla K.
Publikováno v: International Journal of Nanoscience; Dec2018, Vol. 17 Issue 6, pN.PAG-N.PAG, 7p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Study of shot noise in photoresists for extreme ultraviolet lithography through comparative analysis of line edge roughness in electron beam and extreme ultraviolet lithography.
Autor: Bhattarai, Suchit, Neureuther, Andrew R., Naulleau, Patrick P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Nov2017, Vol. 35 Issue 6, p1-10, 10p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Positive-tone crosslinked molecular resist based on acid-catalyzed depolymerization.
Autor: Sharp, Brandon L., Narcross, Hannah L., Tolbert, Laren M., Henderson, Clifford L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Nov2017, Vol. 35 Issue 6, p1-7, 7p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Improvement of Ohmic contacts on Ga2O3 through use of ITO-interlayers.
Autor: Carey IV, Patrick H., Jiancheng Yang, Fan Ren, Hays, David C., Pearton, Stephen J., Akito Kuramata, Kravchenko, Ivan I.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Nov2017, Vol. 35 Issue 6, p1-5, 5p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography.
Autor: Caillau, Mathieu, Crémillieu, Pierre, Laurenceau, Emmanuelle, Chevolot, Yann, Leclercq, Jean-Louis, Alekseev, Sergeï, Chevalier, Céline, Delair, Thierry
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Nov2017, Vol. 35 Issue 6, p1-6, 6p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje