Zobrazeno 1 - 10
of 222
pro vyhledávání: '"dynamic roughening"'
It is widely accepted that local subsystems in isolated integrable quantum systems equilibrate to generalized Gibbs ensembles. Here, we demonstrate the failure of canonical generalized thermalization for a particular class of initial states in certai
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2303.08832
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
We study the magnetic flux landscape in YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-x}$ thin films as a two dimensional rough surface. The vortex density in the superconductor forms a self-affine structure in both space and time. This is characterized by a roughness exponent
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/cond-mat/0411260
Nonmagnetic particles in a carrier ferrofluid acquire an effective dipolar moment when placed in an external magnetic field. This fact leads them to form chains that will roughen due to Brownian motion when the magnetic field is decreased. We study t
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/cond-mat/0311340
Autor:
Pei, Y.T., Shaha, K.P., Chen, C.Q., van der Hulst, R., Turkin, A.A., Vainshtein, D.I., De Hosson, J.Th.M.
Publikováno v:
In Acta Materialia 2009 57(17):5156-5164
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Pei, Yutao
Publikováno v:
14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation & Deposition
Dynamic roughening is a common phenomenon observed in plasma processing of materials, including both film deposition and plasma etching. That is to say, the roughness of a growing/etching interface becomes higher and higher with the processing time o
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::ce71391d29dd84cf5fe9830200de8724
https://research.rug.nl/en/publications/e77139dd-2109-41dc-820a-bd67ab949b7b
https://research.rug.nl/en/publications/e77139dd-2109-41dc-820a-bd67ab949b7b