Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"de Winter, Laurens"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Behringer, Uwe F., Finders, Jo, Semaan, Rawan, Bottiglieri, Gerardo, Erdmann, Andreas, Rispens, Gijsbert, de Winter, Laurens, Beekmans, Steven
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; September 2024, Vol. 13273 Issue: 1 p1327306-1327306-19
Autor:
van de Kerkhof, Mark, Liu, Fei, Meeuwissen, Marieke, Zhang, Xueqing, de Kruif, Robert, Davydova, Natalia, Schiffelers, Guido, Wählish, Felix, van Setten, Eelco, Varenkamp, Wouter, Ricken, Kees, de Winter, Laurens, McNamara, John, Bayraktar, Muharrem, Felix, Nelson M., Lio, Anna
Publikováno v:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI, 11323
With the introduction of the NXE:3400B scanner, ASML has brought EUV to High-Volume Manufacturing (HVM). The high EUV power of >200W being realized with this system satisfies the throughput requirements of HVM, but also requires reconsideration of th
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::afc01c662364e8bfc73a1c7cc3af6d9d
https://doi.org/10.1117/12.2551021
https://doi.org/10.1117/12.2551021
Autor:
van Setten, Eelco, Bottiglieri, Gerardo, de Winter, Laurens, McNamara, John, Rusu, Paul, Lubkoll, Jan, Rispens, Gijsbert, van Schoot, Jan, Neumann, Jens Timo, Roesch, Matthias, Kneer, Bernhard
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 8/14/2017, Vol. 10450, p1-12, 12p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS & MOEMS; Oct-Dec2016, Vol. 15 Issue 4, p1-7, 7p
Autor:
Gargini, Paolo A., Naulleau, Patrick P., Ronse, Kurt G., Itani, Toshiro, van Setten, Eelco, Bottiglieri, Gerardo, de Winter, Laurens, McNamara, John, Rusu, Paul, Lubkoll, Jan, Rispens, Gijsbert, van Schoot, Jan, Neumann, Jens Timo, Roesch, Matthias, Kneer, Bernhard
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; October 2017, Vol. 10450 Issue: 1 p104500W-104500W-12, 10345513p
Autor:
Lai, Kafai, Rosenbluth, Alan E., Han, Geng, Tirapu-Azpiroz, Jaione, Meiring, Jason, Goehnermeier, Aksel, Kneer, Bernhard, Totzeck, Michael, de Winter, Laurens, de Boeij, Wim, van de Kerkhof, Mark
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65200D-65200D-22, 22p