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Autor:
Santos ACF; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, Rio de Janeiro 21949-900, RJ, Brazil., Lucas CA; Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Outeiro de São João Batista s/n, Campus do Valonguinho, Niterói 24020-141, Brazil., Lago AF; Centro de Ciências Naturais e Humanas, Universidade Federal do ABC (UFABC), Av. dos Estados, 5001, Santo André 09210-580, Sao Paulo, Brazil., Oliveira RR; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, Rio de Janeiro 21949-900, RJ, Brazil., Rocha AB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, Rio de Janeiro 21949-900, RJ, Brazil., de Souza GGB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, Rio de Janeiro 21949-900, RJ, Brazil.
Publikováno v:
The journal of physical chemistry. A [J Phys Chem A] 2024 Sep 05; Vol. 128 (35), pp. 7407-7416. Date of Electronic Publication: 2024 Aug 23.
Publikováno v:
Scientific Reports. 9/2/2024, Vol. 14 Issue 1, p1-15. 15p.
Autor:
Varas LR; Escuela de Ingeniería Química, Universidad de Costa Rica, Ciudad de la Investigación, Facultad de Ingeniería 4o piso 11501-2060 San José Costa Rica lautaro.ramirezvaras@ucr.ac.cr., Fantuzzi F; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária Ilha do Fundão 21949-909, Rio de Janeiro RJ Brazil gerson@iq.ufrj.br.; Institut für Anorganische Chemie, Julius-Maximilians-Universität Würzburg Am Hubland 97074 Würzburg Germany.; Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, Julius-Maximilians-Universität Würzburg Emil-Fischer-Straße 42 97074 Würzburg Germany., Coutinho LH; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro Av. Athos da Silveira Ramos 149 21941-972 Rio de Janeiro Brazil., Bernini RB; Instituto Federal de Ciência e Tecnologia do Rio de Janeiro (IFRJ) Duque de Caxias 25050-100 RJ Brazil., Nascimento MAC; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária Ilha do Fundão 21949-909, Rio de Janeiro RJ Brazil gerson@iq.ufrj.br., de Souza GGB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária Ilha do Fundão 21949-909, Rio de Janeiro RJ Brazil gerson@iq.ufrj.br.
Publikováno v:
RSC advances [RSC Adv] 2020 Sep 22; Vol. 10 (58), pp. 35039-35048. Date of Electronic Publication: 2020 Sep 22 (Print Publication: 2020).
Autor:
Santos ACF; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, 21949-900 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., Lago AF; Centro de Ciências Naturais e Humanas, Universidade Federal do ABC (UFABC), 09210-580 Santo André, SP, Brazil., Lucas CA; Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense (UFF), 24020-141 Niterói, RJ, Brazil., de Souza GGB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), Ilha do Fundão, 21949-900 Rio de Janeiro, RJ, Brazil.
Publikováno v:
The Journal of chemical physics [J Chem Phys] 2020 Aug 21; Vol. 153 (7), pp. 074305.
Autor:
Salles RCM; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária, Ilha do Fundão, 21941-909 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., Coutinho LH; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária, Ilha do Fundão, 21941-972 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., da Veiga AG; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária, Ilha do Fundão, 21941-909 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., Sant'Anna MM; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária, Ilha do Fundão, 21941-972 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., de Souza GGB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Cidade Universitária, Ilha do Fundão, 21941-909 Rio de Janeiro, RJ, Brazil.
Publikováno v:
The Journal of chemical physics [J Chem Phys] 2018 Jan 28; Vol. 148 (4), pp. 045107.
Autor:
Stolte WC; Department of Chemistry, University of Nevada, Las Vegas, Nevada 89154-4003, USA., Santos ACF; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Caixa Postal 68525, 21941-972 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., de Souza GGB; Instituto de Química, Universidade Federal do Rio de Janeiro, 21949-900 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., Sant'Anna MM; Instituto de Física, Universidade Federal do Rio de Janeiro, Caixa Postal 68525, 21941-972 Rio de Janeiro, RJ, Brazil., Leung KT; Department of Chemistry, University of Waterloo, Waterloo, Ontario N2L 3G1, Canada.
Publikováno v:
The Journal of chemical physics [J Chem Phys] 2017 Jun 07; Vol. 146 (21), pp. 214306.
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