Zobrazeno 1 - 10 of 37 pro vyhledávání: '"de Frésart, E."'
2
Akademický článek
The thermal stability of SiGe films deposited by ultrahigh-vacuum chemical vapor deposition.
Autor: Stiffler, S. R., Comfort, J. H., Stanis, C. L., Harame, D. L., de Frésart, E., Meyerson, B. S.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/1/1991, Vol. 70 Issue 3, p1416, 5p, 4 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Studies of the reactive ion etching of SiGe alloys.
Autor: Oehrlein, G. S., Kroesen, G. M. W., de Frésart, E., Zhang, Y., Bestwick, T. D.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1991, Vol. 9 Issue 3, p768-774, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Boron surface segregation in silicon molecular beam epitaxy.
Autor: de Frésart, E., Wang, K. L., Rhee, S. S.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 7/4/1988, Vol. 53 Issue 1, p48, 3p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Boron oxide interaction with silicon in silicon molecular beam epitaxy.
Autor: de Frésart, E., Rhee, S. S., Wang, K. L.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 10/6/1986, Vol. 49 Issue 14, p847, 3p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Low-temperature silicon cleaning via hydrogen passivation and conditions for epitaxy.
Autor: Iyer, S. S., Arienzo, M., de Frésart, E.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 8/27/1990, Vol. 57 Issue 9, p893, 3p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje