Zobrazeno 1 - 10
of 18
pro vyhledávání: '"da Silva Jr, Eronides F."'
Publikováno v:
In Applied Surface Science 2006 252(15):5572-5574
Autor:
Laranjeira, Jane M.G., Khoury, Helen J., de Azevedo, Walter M., da Silva Jr., Eronides F., de Vasconcelos, Elder A.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 2002 190(1):390-394
Publikováno v:
Brazilian Journal of Physics
To improve the understanding of the microscopic properties of the silicon oxidation process, we perform numerical simulations of thermal SiO2 thin film growth. Therefrom, we analyze the growth kinetics as well as the evolution of the SiO2/Si interfac
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______4175::ac0b0a75ad0da8a35076362b8be155ff
http://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/2736
http://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/2736
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p530-537, 8p
Autor:
Freire, Jose A. d. K., Pereira, Teldo A. S., Costa e Silva, Jusciane, Farias, Gil A., Freire, Valder N., da Silva Jr., Eronides F.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p538-546, 9p
Autor:
Ferriera da Silva, A., Souza Dantas, N., Ahuja, R., Pepe, I., da Silva Jr., Eronides F., Nur, O., Willander, M., Persson, C.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p556-564, 9p
Publikováno v:
Physica Status Solidi. A: Applications & Materials Science; Apr2012, Vol. 209 Issue 4, p675-678, 4p
Publikováno v:
Theoretical Chemistry Accounts: Theory, Computation, & Modeling; May2010, Vol. 126 Issue 1/2, p39-44, 6p, 2 Charts, 3 Graphs
Publikováno v:
Physica Status Solidi (A) - Applications and Materials Science; April 2012, Vol. 209 Issue: 4 p675-678, 4p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.