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pro vyhledávání: '"dépôt par couche atomique"'
Autor:
El Hajjam, Khalil
Résumé: Aujourd’hui plusieurs obstacles technologiques et limitations physiques s’opposent à la poursuite de la miniaturisation de la technologie CMOS : courants de fuite, effet de canal court, effet de porteurs chauds et fiabilité des oxydes
Externí odkaz:
http://hdl.handle.net/11143/8508
Autor:
Marichy, C., Bechelany, Mikhael
Publikováno v:
Techniques de l’ingénieur, Article / Réf : RE265 v1
Techniques de l’ingénieur, Article / Réf : RE265 v1, 2016
Techniques de l’ingénieur, Article / Réf : RE265 v1, 2016
International audience; Performances of sensors, biosensors and membranes as well as their selectivity are dependent of the structuration, morphology and type of the used material. Atomic layer deposition (ALD) appears as a suitable synthesis techniq
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::3404ecdedcacce8c8cec90db2808b17b
https://hal.umontpellier.fr/hal-01702135
https://hal.umontpellier.fr/hal-01702135