Zobrazeno 1 - 10
of 2 349
pro vyhledávání: '"bias temperature instability (BTI)"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
ENERGY & ENVIRONMENTAL MATERIALS. 5:1200-1203
Autor:
J. P. Bastos, B. J. O'Sullivan, J. Franco, S. Tyaginov, B. Truijen, A. Chasin, R. Degraeve, B. Kaczer, R. Ritzenthaler, E. Capogreco, E. D. Litta, A. Spessot, Y. Higashi, Y. Yoon, V. Machkaoutsan, P. Fazan, N. Horiguchi
Publikováno v:
2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS).
Kniha
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
ASICON
Measuring bias temperature instability (BTI) on ring oscillators (ROs) is frequently used. However, performance of a semiconductor chip is fluctuated dynamically due to bias, temperature and etc. BTI-sensitive and -insensitive ROs are implemented in
Autor:
Marco Grossi, Martin Omana
In this paper we analyze the effect of the Bias Temperature Instability (BTI) aging phenomenon on the delay of deskew buffers employed in high performance microprocessors. Our analysis shows that, during circuit lifetime, the delay induced by BTI on
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::13d9eff40d738542d5dcee818c89791f
http://hdl.handle.net/11585/694714
http://hdl.handle.net/11585/694714
Autor:
V. Putcha, D. Zhou, Hiroaki Arimura, Liesbeth Witters, Nadine Collaert, Sonja Sioncke, Niamh Waldron, Alireza Alian, D. Linten, Laura Nyns, Guido Groeseneken, A. Vais, M.M. Heyns, B. Kaczer, J. Franco, Aaron Thean, Jerome Mitard
Publikováno v:
MRS Advances. 1:3329-3340
We present a review of our recent studies of Bias Temperature Instability (BTI) in Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistors (MOSFETs) fabricated with different material systems, highlighting the reliability opportunities and challenges of e
Autor:
Hassan Mostafa
Publikováno v:
MOCAST
Sub-micron CMOS Technology scaling imposes several challenges on the designers, especially for high speed applications, such as reliability and variability. Inserting an Adaptive Body Bias on-Chip (ABBoC) to monitor the variations of the threshold vo