Zobrazeno 1 - 10
of 38
pro vyhledávání: '"Zhu, Yefang"'
Autor:
Zhu, Yefang1 (AUTHOR), Zhang, Hongmei2 (AUTHOR), Xi, Ying3 (AUTHOR), Zhu, Hongli4 (AUTHOR), Lu, Yan3 (AUTHOR), Luo, Xue5 (AUTHOR), Tang, Zhangui6 (AUTHOR), Lei, Hong4 (AUTHOR) honglei8004@sina.com
Publikováno v:
Diabetes Therapy. May2024, Vol. 15 Issue 5, p917-927. 11p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Song, Sijie1, Zhu, Yefang1, Jorch, Gerhard1,2, Zhang, Xiaoting1, Wu, Yan1, Chen, Wen1, Gong, Hua1, Zhou, Ligang1, Wang, Xueyan3, Zhong, Xiaoyun1 NeoCQHCWC@163.com
Publikováno v:
BMC Pregnancy & Childbirth. 10/18/2021, Vol. 21 Issue 1, p1-6. 6p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Song, Sijie, Zhu, Yefang, Jorch, Gerhard, Zhang, Xiaoting, Wu, Yan, Chen, Wen, Gong, Hua, Zhou, Ligang, Wang, Xueyan, Zhong, Xiaoyun
Additional file 4. Chinese literature review with case reports of mirror syndrome.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::cb9495d8a71909847a73f4c04af749e1
Autor:
Song, Sijie, Zhu, Yefang, Jorch, Gerhard, Zhang, Xiaoting, Wu, Yan, Chen, Wen, Gong, Hua, Zhou, Ligang, Wang, Xueyan, Zhong, Xiaoyun
Additional file 3. Blood analysis and blood gas of the infant.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::171749f0ac56eaec7c83e9b37c435eea
Autor:
Robinson, John C., Sendelbach, Matthew J., Li, Runling, Hsu, I-Kai, Brozek, Tomasz, Yang, Linrong, He, Debiao, Wu, Fangrui, Ren, Jiadong, Zhu, Yefang, Zhang, Yan, Liu, Pei, Zhang, Haiqiong, Zhang, Guifeng, Fu, Yingying, Yin, Shan, Jia, Yujie, Yu, Bo
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; May 2022, Vol. 12053 Issue: 1 p120531U-120531U-7, 1084787p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
2015 China Semiconductor Technology International Conference.
Wet cleaning is very critical for technology nodes below 40&28nm in ULSI manufacturing. Better clean efficiency and less film damage becomes the main challenge for WET clean processes in advanced technology development. New chemicals were used in thi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cd9e08d8e44357ad91fe35cd2d36de27
https://doi.org/10.1109/cstic.2015.7153374
https://doi.org/10.1109/cstic.2015.7153374
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.