Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Zhao Qiu Wang"'
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 62:400-403
A 1 MHz photoacoustic system is used to measure the doses of boron, phosphorus and arsenic ions implanted into silicon wafers over the range of 10 11 to 10 16 ions/cm 2 . The amorphization and residual damage produced by ion implantation seem to cont
Publikováno v:
Acoustical Imaging ISBN: 9781461362869
The performance of semiconductor devices is related to the chemical components and crystallographic quality of the semiconductor wafers. The control of the dose and uniformity of ion implantation, for example, is critical for good device performance,
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5391caf709aafba9770b1618903b36b3
https://doi.org/10.1007/978-1-4615-2958-3_43
https://doi.org/10.1007/978-1-4615-2958-3_43
Autor:
Zhao Qiu Wang, Newman, Dave M.
Publikováno v:
IEEE Transactions on Magnetics. Sep2000 Part 1 of 2, Vol. 36 Issue 5, p3640. 3p. 1 Diagram, 3 Graphs.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.