Zobrazeno 1 - 10
of 31
pro vyhledávání: '"Zeng, Yu Heng"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Shi, Zhi Wen, Wang, Wei Sheng, Ai, Ling, Li, Yan, Chen, Xin Li, Xiao, Hui, Zeng, Yu Heng, Zhu, Li Qiang
Publikováno v:
In Journal of Materials Science & Technology 10 October 2023 160:204-213
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 21 February 2006 497(1-2):292-298
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Acta Physica Sinica. 57:7108
Through the comparative investigation on oxygen precipitation behaviors in the heavily and lightly arsenic-doped n-type Czochralski (CZ) silicon wafers subjected to the two-step annealing successively at low temperature (450—800℃) and high temper
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::55453685f30ce3e85b1bccde8a93867a
https://doi.org/10.7498/aps.57.7108
https://doi.org/10.7498/aps.57.7108