Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Zeng, Linhua"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
ECS Transactions. 60:323-329
This article introduced the issues when running 55nm BEOL MHM (Metal Hard Mask) AIO (All-In-One) Etch during manufacturing. Two kinds of issues are studied: one is the post etching condensation and another is the particles formed on un-etch wafers. B
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0bed5c8a5044554adfe4483d9c6d4829
https://doi.org/10.1149/06001.0323ecst
https://doi.org/10.1149/06001.0323ecst
