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Autor:
Zeggaoui, Nassima
La lithographie par double impression est une solution potentielle proposée pour l'impression des circuits des nœuds technologiques avancés (22nm et au-delà) en attendant que la lithographie Extrême Ultraviolet soit prête pour la production en
Externí odkaz:
http://www.theses.fr/2011GRENT047/document
Autor:
Liang, Ted, Kim, Seong-Sue, Zuo, Mary, Mishra, Kushlendra, Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Zeggaoui, Nassima
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12751 Issue: 1 p127511F-127511F-6, 1147606p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 12/20/2023, Vol. 12751, p127511F-127511F-6, 1p
Autor:
Lafferty, Neal V., Grunes, Harsha, Zeggaoui, Nassima, Sharma, Rachit, Lei, Junjiang, Bork, Ingo
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; April 2024, Vol. 12954 Issue: 1 p1295417-1295417-8
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; March 2021, Vol. 11613 Issue: 1 p116130M-116130M-7, 1045178p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 11/6/2020, Vol. 11613, p116130M-116130M-7, 1p