Zobrazeno 1 - 10
of 239
pro vyhledávání: '"Z. Hubicka"'
Publikováno v:
Chemical Engineering Transactions, Vol 41 (2014)
Iron oxide (a-Fe2O3) in hematite crystalline structure and tungsten trioxide have recently attracted much attention as possibly convenient materials to be used for hydrogen production via photoelectrochemical water splitting. Thius is due to their fa
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/c8199557f12f4012a4934cda94f290c9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
A. Hrubantova, R. Hippler, H. Wulff, M. Cada, O. Gedeon, P. Jiricek, J. Houdkova, J. Olejnicek, N. Nepomniashchaia, C. A. Helm, Z. Hubicka
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 132:215301
Copper tungsten oxide films are deposited with the help of reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) in an argon/oxygen gas mixture. Two magnetrons, one equipped with a tungsten target and the other with a copper target, are employed.
Autor:
A. Hrubantova, R. Hippler, H. Wulff, M. Cada, J. Olejnicek, N. Nepomniashchaia, C. A. Helm, Z. Hubicka
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A. 40:063402
Tungsten oxide films are deposited with the help of reactive magnetron sputtering in an argon/oxygen gas mixture. Films are deposited on different substrates, in particular, on soda lime glass, fluorine-doped tin oxide coated glass, silicon (Si), and