Zobrazeno 1 - 10
of 24
pro vyhledávání: '"Z. Chalupa"'
Autor:
M. Moulin, M. Rack, T. Fache, Z. Chalupa, C. Plantier, Y. Morand, J. Lacord, F. Allibert, F. Gaillard, J. Lugo, L. Hutin, J.P. Raskin
Publikováno v:
Solid-State Electronics, Vol. 194, p. 108301 (2022)
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::0f20452394e65ae338243c621f85c2c0
https://hdl.handle.net/2078.1/269243
https://hdl.handle.net/2078.1/269243
Autor:
J. Lacord, F. Tcheme Wakam, Z. Chalupa, J.-M. Hartmann, P. Besson, V. Loup, C. Vizioz, L. Brevard, F. Aussenac, X. Mescot, K. Lee, M. Bawedin
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 193:108294
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7e6d72453949fa662f5d50ac49cac541
https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108294
https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108294
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ian Cayrefourcq, N. Allouti, Christophe Navarro, Nicolas Posseme, M. Argoud, G. Chamiot-Maitral, Patricia Pimenta-Barros, C. Comboroure, Z. Chalupa, R. Tiron, C. Nicolet, Laurent Pain, Guillaume Claveau
Publikováno v:
Novel Patterning Technologies 2018
Novel Patterning Technologies 2018, Feb 2018, San Jose, Canada. pp.11, ⟨10.1117/12.2297407⟩
Novel Patterning Technologies 2018, Feb 2018, San Jose, Canada. pp.11, ⟨10.1117/12.2297407⟩
International audience; Directed Self Assembly (DSA) of block-copolymers (BCPs) is considered as a cost-effective solution to extend the performances of conventional lithography. In this work, we propose a smart surface modification technique to prec
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::05fed69792eae248828e61815f657b00
https://doi.org/10.1117/12.2297407
https://doi.org/10.1117/12.2297407
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
R. vanBentum, E. Pruefer, C. Caillat, W. P. Maszara, N. R. Mohapatra, D. Fisch, Z. Johnson, Z. Chalupa
Publikováno v:
2009 IEEE International SOI Conference.
In this paper, the performance of Zero capacitor RAM (Z-RAM ® ) devices, developed in a 45nm SOI CMOS technology, is compared with both symmetric and asymmetric doping schemes. It is shown that the asymmetrically doped Z-RAM (AD) devices offer much
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b5d681fbed97f9fce6df5410491a8fcc
https://doi.org/10.1109/soi.2009.5318778
https://doi.org/10.1109/soi.2009.5318778
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.