Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"Yurkevich, Oksana"'
Autor:
Fenero, Marta, Yurkevich, Oksana, Grande, Hans-Jürgen, García-Lecina, Eva, Viñuales, Ana, Knez, Mato, Palenzuela, Jesús
Publikováno v:
In Applied Surface Science 30 June 2024 659
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
YURKEVICH, OKSANA1 ok.yurkevich@gmail.com, SUBOCHEV, ALEXEY2 subochev.alexey@gmail.com, MOZGOVYY, OLEG3 o.mozgovyy@gmail.com
Publikováno v:
Journal of International Economic Policy. 2022, Vol. 37 Issue 2, p93-114. 22p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Yurkevich, Oksana1, Maksimova, Ksenia1, Goikhman, Alexander1, Grunin, Alexey1, Prokopovich, Pavel1, Tyurin, Alexander2, Medvedskaya, Polina3, Lyatun, Ivan3, Snigireva, Irina4, Snigirev, Anatoly3
Publikováno v:
Journal of Synchrotron Radiation. Jul2017, Vol. 24 Issue 4, p775-780. 5p.
Autor:
Rihova, Martina, Yurkevich, Oksana, Motola, Martin, Hromadko, Ludek, Spotz, Zdenek, Zazpe, Raul, Knez, Mato, Macak, Jan M.
Publikováno v:
Nanoscale Advances; 8/7/2021, Vol. 3 Issue 15, p4589-4596, 8p
Autor:
Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Boyadjiev, Stefan, Cameron, David C., Chen, Rong, Chubarov, Mikhail, Cremers, Veronique, Devi, Anjana, Drozd, Viktor, Elnikova, Liliya, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hausmann, Dennis M., Hwang, Cheol Seong, Jen, Shih-Hui, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Kim, Do Han, Klibanov, Lev, Koshtyal, Yury, Krause, A. Outi I., Kuhs, Jakob, Kaerkkaenen, Irina, Kaariainen, Marja-Leena, Kaariainen, Tommi, Lamagna, Luca, Lapicki, Adam A., Leskela, Markku, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Mennad, Abdelkader, Militzer, Christian, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Rampelberg, Geert, Ras, Robin H. A., Rauwel, Erwan, Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Salami, Hossein, Savin, Hele, Schneider, Nathanaelle, Seidel, Thomas E., Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry B., Törndahl, Tobias, van Ommen, J. Ruud, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Atomic layer deposition (ALD), a gas-phase thin film deposition technique based on repeated, self-terminating gas-solid reactions, has become the method of choice in semiconductor manufacturing and many other technological areas for depositing thin c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::b61ad2530953894e15e6f0bc01534da0
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Aarik, Jaan, Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Cameron, David, Chekurov, Nikolai, Chubarov, Mikhail, Drozd, Viktor, Elliott, Simon, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hwang, Cheol Seong, Junige, Marcel, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Koshtyal, Yury, Krause, Outi, Kääriäinen, Marja-Leena, Kääriäinen, Tommi, Lamagna, Luca, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Pyymaki-Perros, Alexander, Ras, Robin H. A., Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Savin, Hele, Seidel, Thomas E., Sundberg, Pia, Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry, Tallarida, Massimo, Törndahl, Tobias, Utriainen, Mikko, van Ommen, J. Ruud, Wächtler, Thomas, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Publikováno v:
Aarik, J, Ahvenniemi, E, Akbashev, A R, Ali, S, Bechelany, M, Berdova, M, Cameron, D, Chekurov, N, Chubarov, M, Drozd, V, Elliott, S, Gottardi, G, Grigoras, K, Hwang, C S, Junige, M, Kallio, T, Kanervo, J, Khmelnitskiy, I, Koshtyal, Y, Krause, O, Kääriäinen, M-L, Kääriäinen, T, Lamagna, L, Lipsanen, H, Lyytinen, J, Malkov, A, Malygin, A, Molarius, J, Norek, M, Ozgit-Akgun, C, Panov, M, Pedersen, H, Piallat, F, Popov, G, Puurunen, R L, Pyymaki-Perros, A, Ras, R H A, Roozeboom, F, Sajavaara, T, Savin, H, Seidel, T E, Sundberg, P, Sundqvist, J, Suyatin, D, Tallarida, M, Törndahl, T, Utriainen, M, van Ommen, J R, Wächtler, T, Wiemer, C, Ylivaara, O M E & Yurkevich, O 2016, ' On the early history of atomic layer deposition : most significant works and applications ', 16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016, Dublin, Ireland, 24/07/16-27/07/16 .
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::3b2b52ef81afcdd0edebc708b823184f
https://cris.vtt.fi/en/publications/03707523-8c1a-4bbc-8828-d8f850920e09
https://cris.vtt.fi/en/publications/03707523-8c1a-4bbc-8828-d8f850920e09