Zobrazeno 1 - 10
of 55
pro vyhledávání: '"Yulin, S. A."'
Over the last few decades, remarkable progress has been made in the field of multilayer coatings for the EUV spectral region, mainly due to the demands of EUV lithography for the semiconductor industry. The progress is associated with a deep understa
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::bc42d51b4241c2b0e3d403f15addab13
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/415831
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/415831
Autor:
Chkhalo, N.I., Garakhin, S.A., Golubev, S.V., Lopatin, A.Y., Nechay, A.N., Pestov, A.E., Salashchenko, N.N., Toropov, M.N., Tsybin, N.N., Vodopyanov, A.V., Yulin, S.
We present the results of investigations of extreme ultraviolet (EUV) light emission in the range from 5 to 10 nm. The light source was a pulsed ""double-stream"" Xe:He gas jet target irradiated by a laser beam with a power density of ∼1011 W/cm2.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::37d66413d21fee77b7c0976f5699ff6e
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/256720
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/256720
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2001 57:3-8
The results of a comparative study of Ru-, Mo-, Nb- and Pd- coatings designed for grazing angle applications in the soft X-ray and extreme ultraviolet (EUV) spectrum are presented. Optical properties and temporal stability of coatings were investigat
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::d52f5ac03471d421bf51309bcc505f42
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/247408
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/247408
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Yulin, S., Feigl, T., Kuhlmann, T., Kaiser, N., Fedorenko, A. I., Kondratenko, V. V., Poltseva, O. V., Sevryukova, V. A., Zolotaryov, A. Yu., Zubarev, E. N.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 8/1/2002, Vol. 92 Issue 3, p1216, 5p, 1 Black and White Photograph, 4 Charts, 2 Graphs
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Filatova, E.O., Kozhevnikov, I.V., Sokolov, A.A., Ubyivovk, E.V., Yulin, S., Gorgoi, M., Schäfers, F.
We developed a mathematical analysis method of reflectometry data and used it to characterize the internal structure of TiO 2/SiO 2/Si and Ti/SiO 2/Si stacks. Atomic concentration profiles of all the chemical elements composing the samples were recon
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::5fa578c923071f2774019cd87d8d9ddd
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/229054
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/229054
Autor:
Faradzhev, N.S., Yakshinskiy, B.V., Starodub, E., Madey, T.E., Hill, S.B., Grantham, S., Lucatorto, T.B., Yulin, S., Vescovo, E., Keister, J.W.
In the unbaked vacuum systems of extreme ultraviolet (EUV) lithography steppers, oxide formation and carbon growth on Mo/Si multilayer mirrors (MLMs) are competing processes leading to reflectivity loss. A major contribution to this mirror degradatio
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::ec0d6a47ebf00c9fe92fcfbfdd51a0a3
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/224668
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/224668