Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Yoshiyuki Kawazu"'
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 29:2195
Tungsten chemical vapor deposition (W-CVD) using WF6 and H2 as reactants was applied to forming absorbers of X-ray masks for synchrotron radiation (SR) lithography. For this purpose, the properties of deposited W (CVD-W), such as stress, density and
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::63cb7f6cce7c61b64a5b75b15fe72b70
https://doi.org/10.1143/jjap.29.2195
https://doi.org/10.1143/jjap.29.2195
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.