Zobrazeno 1 - 10
of 30
pro vyhledávání: '"Yin, Jiying"'
Autor:
Yin, Jiying, Diao, Naichao, Tian, Tian, Wang, Qi, Ma, Shuqi, He, Ning, Zhou, Hongming, Zhou, Zehui, Jia, Wenyi, Wang, Xiaonan, Shi, Kun, Du, Rui
Publikováno v:
In Veterinary Microbiology April 2024 291
Publikováno v:
Bernoulli 2013, Vol. 19, No. 5A, 1714-1749
In this paper we propose using a nonparametric model specification test for parametric time series with long-range dependence (LRD). To establish asymptotic distributions of the proposed test statistic, we develop new central limit theorems for certa
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1312.2788
Autor:
Hall, Peter, Yin, Jiying
Publikováno v:
Journal of the Royal Statistical Society. Series B (Statistical Methodology), 2003 Jan 01. 65(4), 869-886.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/3647588
Publikováno v:
In Journal of Econometrics September 2017 200(1):104-117
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Journal of Econometrics January 2013 172(1):1-13
Publikováno v:
Econometric Theory, 2011 Apr 01. 27(2), 260-284.
Externí odkaz:
http://dx.doi.org/10.1017/S0266466610000241
Publikováno v:
2008 16th IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors.
The rapid thermal processing (RTP) system requires critical control of temperature uniformity. For most RTP system, the structure and heating modes of heating component determined the control strategy. Major types of the heating system of nowadays RT
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e48c9b97df27525f4e513de95cfaf960
https://doi.org/10.1109/rtp.2008.4690565
https://doi.org/10.1109/rtp.2008.4690565
Publikováno v:
2008 16th IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors; 2008, p261-262, 2p