Zobrazeno 1 - 10
of 107
pro vyhledávání: '"Yakushev, O."'
Autor:
Astakhov, D. I., Goedheer, W. J., Lee, C. J., Ivanov, V. V., Krivtsun, V. M., Yakushev, O., Koshelev, K. N., Lopaev, D. V., Bijkerk, F.
We have used a combination of numerical modeling and experiments to study carbon etching in the presence of a hydrogen plasma. We model the evolution of a low density EUV-induced plasma during and after the EUV pulse to obtain the energy resolved ion
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1507.02705
Publikováno v:
2015 Plasma Sources Sci. Technol. 24 035003
An experimental setup that directly reproduces Extreme UV-lithography relevant conditions for detailed component exposure tests is described. The EUV setup includes a pulsed plasma radiation source, operating at 13.5 nm; a debris mitigation system; c
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1411.4505
Molecular contamination of a grazing incidence collector for extreme ultraviolet (EUV) lithography was experimentally studied. A carbon film was found to have grown under irradiation from a pulsed tin plasma discharge. Our studies show that the film
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1411.4509
Autor:
Dolgov, A, Lopaev, D, Rachimova, T, Kovalev, A, Vasilyeva, A, Lee, C J, Krivtsun, V M, Yakushev, O, Bijkerk, F
Publikováno v:
2014 J. Phys. D: Appl. Phys. 47 065205
Cleaning of contamination of optical surfaces by amorphous carbon (a-C) is highly relevant for extreme ultraviolet (EUV) lithography. We have studied the mechanisms for a-C removal from a Si surface. By comparing a-C removal in a surface wave dischar
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1310.4057
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Dolgov, A., Lee, C. J., Bijkerk, F., Abrikosov, A., Krivtsun, V. M., Lopaev, D., Yakushev, O., van Kampen, M.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 2018, Vol. 123 Issue 15, p1-N.PAG, 9p
Publikováno v:
Plasma Physics Reports. Jun2017, Vol. 43 Issue 6, p614-620. 7p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.