Zobrazeno 1 - 10
of 86
pro vyhledávání: '"Y.C. Tian"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Instrumentation. 16:P06039
Artifact removal algorithms are crucial for image quality in computed tomography. Many ring artifact removal algorithms have been proposed in conventional X-ray absorption computed tomography, but relatively fewer algorithms were suggested for differ
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b387873c3f3971171c84c6930a039e30
https://doi.org/10.1088/1748-0221/16/06/p06039
https://doi.org/10.1088/1748-0221/16/06/p06039
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Chemical Engineering Science. 221:115699
In this study, a bi-salt sorbent was observed to exhibit better adaptability to the heating and cooling temperatures than conventional single-salt sorbents. A reactor filled with the bi-salt sorbent of CaCl2 and MnCl2 was designed, and the performanc
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4e48aa33841ddd7688a4da557299cabb
https://doi.org/10.1016/j.ces.2020.115699
https://doi.org/10.1016/j.ces.2020.115699
Publikováno v:
2007 International Conference on Information Acquisition.
In contact lithography it is hard to fabricate microstructures with high precision and high aspect ratio due to diffraction. In this paper, patter transfer error of certain deep layer in SU-8 deep UV lithography will be corrected based on the model-a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e274bbb2a876fd85a5e74bf9283fb9de
https://doi.org/10.1109/icia.2007.4295753
https://doi.org/10.1109/icia.2007.4295753
Publikováno v:
2007 International Conference on Information Acquisition.
In this paper, Dill's classical exposure model for positive photoresist is generalized to fit negative photoresist. Based on Dill's model, the differences between positive and negative photoresist is analyzed and then the equations of chemical kineti
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ce8a9115733f0ae4c9bb37f5ca8512d9
https://doi.org/10.1109/icia.2007.4295744
https://doi.org/10.1109/icia.2007.4295744
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.