Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Y. S. Chieh"'
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 141:1585-1589
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::39c1fa28aacbd9c894a6e3f292984c7a
https://doi.org/10.1149/1.2054966
https://doi.org/10.1149/1.2054966
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices. 39:1882-1888
The electrical behavior of shallow silicide-to-silicon ohmic contacts has been evaluated for lateral dimensions to 50 nm. Trench-isolated series resistance test structures were fabricated using TiSi/sub 2/ self-aligned contact technology. Resistance
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1ef8129a081a1d90e32b56f808b48290
https://doi.org/10.1109/16.144679
https://doi.org/10.1109/16.144679
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.