Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Y. Perras"'
Autor:
K. B. Nguyen, G. F. Cardinale, D. A. Tichenor, G. D. Kubiak, K. Berger, A. K. Ray-Chaudhuri, Y. Perras, S. J. Haney, R. Nissen, K. Krenz, R. H. Stulen, H. Fujioka, C. Hu, J. Bokor, D. M. Tennant, L. A. Fetter
Publikováno v:
Extreme Ultraviolet Lithography (TOPS).
This paper reports the first demonstration of MOS device fabrication using extreme ultraviolet lithography. The alignment strategy, mask layout, mask fabrication, and device characteristics will be reported.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::80ac561d1328ea7fac5c818e128d26c0
https://doi.org/10.1364/eul.1996.a208
https://doi.org/10.1364/eul.1996.a208
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.