Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Y Rault"'
Autor:
Z. Fang, Damien Lenoble, M Juhel, Y Rault, Jay T. Scheuer, J.-P Reynard, F. Lallement, Steven R. Walther, Ludovic Godet, A. Grouillet
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 186:17-20
As semiconductor devices keep shrinking in size, the fabrication of ultra-shallow junctions (USJ) is becoming a key issue for future CMOS technologies. In this study, we propose for the first time to demonstrate and extensively characterize the capab
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::76a6fdfced34eb61b761ea998e5caf5b
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.04.004
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.04.004
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.