Zobrazeno 1 - 10
of 197
pro vyhledávání: '"X. J. Ning"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Materials Research Innovations. 19:S9-258
The effects of vacuum pre-oxidation treatment on the isothermal and cyclic oxidation behaviour of a cold-sprayed NiCoCrAlY coating are investigated. It is found that the cold-sprayed NiCoCrAlY coating has a dense structure with low oxygen content and
Autor:
H.-R. Ren, X.-J. Ning, Y.-J. Wu, Q. Fan, H.-M. Ho, Z.-H. Gan, Q. Xu, K. Zheng, Daniel Y. Deng, Z.-Y. Zhang
Publikováno v:
ECS Transactions. 27:383-387
GOI (Gate Oxide Integrity) improvement in 65nm SAC OX (Sacrificial Oxide) free process integration was studied in this paper. After studying the effects of various processes in STI (Shallow Trench Isolation) module with SAC OX free scheme on GOI, it
Publikováno v:
ECS Transactions. 27:55-60
NMOS narrow width transistor driving current as a function of shallow trench isolation (STI) processes and channel implant conditions were studied on a 65nm CMOS technology. It is found that the magnitude of compressive stress in STI could modulate t
Publikováno v:
Acta Horticulturae. :273-282
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Thermal Spray Technology. 15:598-603
Yttria doped zirconia has been widely used as electrolyte materials for solid oxide fuel cells (SOFC). Plasma spraying is a cost-effective process to deposit YSZ electrolyte. In this study, the 8 mol% Y2O3 stabilized ZrO2 (YSZ) layer was deposited by
Autor:
G. Stojakovic, X. J. Ning
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 18:1425-1430
Three different aluminum reactive ion etch (RIE) processes have been developed for manufacturing 175 and 150 nm line/space wiring patterns in multilevel interconnection. The three approaches vary in complexity: (1) Conventional organic antireflective