Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Spectral purity enhancement for the EUV Lithography Systems by suppressing UV reflection from multilayers

Autor: Huang, Qiushi, de Boer, Meint, Barreaux, Jonathan, Paardekooper, Daniel Mathijs, van den Boogaard, Toine, van de Kruijs, Robbert, Zoethout, Erwin, Louis, Eric, Bijkerk, Fred, Wood, Obert R., Panning, Eric M.

Publikováno v: Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography V

Plasma based radiation sources optimized to emit 13.5 nm Extreme UV radiation also produce a significant amount of light at longer wavelengths. This so called out-of-band (OoB) radiation is detrimental for the imaging capabilities of an EUV lithograp

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::65d921e7fb540fc9d98d0673e8dd2c55
https://doi.org/10.1117/12.2046415

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Printing EUV Phase-shift Masks using the 0.3NA Berkeley Micro-exposure Tool

Autor: Fontaine, Bruno La, Pawloski, Adam R., Wood, Obert R., Levinson, Harry, Denham, Paul, Gullikson, Eric, Hoef, Brian, Naulleau, Patrick, Holfeld, Christian, Chovino, Christian, Letzkus, Florian

Publikováno v: Fontaine, Bruno La; Pawloski, Adam R.; Wood, Obert R.; Levinson, Harry; Denham, Paul; Gullikson, Eric; et al.(2005). Printing EUV Phase-shift Masks using the 0.3NA Berkeley Micro-exposure Tool. Lawrence Berkeley National Laboratory: Lawrence Berkeley National Laboratory. Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/4zv2405r

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::b82b3ac930979d2e6fa900c0b116dd92
http://www.escholarship.org/uc/item/4zv2405r

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.